薄膜生长设备

快速退火炉

快速退火炉

生产厂家:法国

设备型号: AS-One100HT

购置价格:6万元(欧元)

购置年份:2015

放置地点:唐敖庆楼超净实验室

负责人: 王宝续,85168241-8225

设备用途:

应用于半导体材料、器件、新材料等的快速热处理。

技术参数:

1、温度范围:室温~1500℃;

2、最快升温速率:200℃/s;

3、保温时间:30s@1500℃;150s@1400℃;30min@1200℃;

3hours@950℃。

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